Informação geral sobre o processo de PVD

Informação geral sobre o processo de PVD

Os processos de PVD são o processo atomístico do depósito em que os materiais vaporizados de uma fonte são transportados sob a forma de um vapor com um vácuo ou do ambiente de baixa pressão gasoso ou do plasma à carcaça, onde se condensa. Os processos de PVD podem ser usados para depositar filmes dos elementos e das moléculas e igualmente do composto

materiais pela reação do material de depósito com o ambiente ambiental do gás. (por exemplo, lata) ou com um co

material de depósito (por exemplo tique). Tipicamente, os processos de PVD são usados para depositar filmes com espessura na escala de alguns nanômetros aos milhares de nanômetros; contudo, podem ser usados para formar depósitos da classificar-composição de revestimentos da multi-camada, depósitos muito grossos, e estruturas autônomas.

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