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Desbloqueie o Desempenho de Revestimento de Próxima Geração com a Máquina de Ionização PVD: A Solução Híbrida Multi950

Desbloqueie o Desempenho de Revestimento de Próxima Geração com a Máquina de Ionização PVD: A Solução Híbrida Multi950

2025-12-28

No cenário em evolução da fabricação avançada e da ciência dos materiais, a demanda por filmes finos de alto desempenho, duráveis ​​e multifuncionais nunca foi tão grande. Pesquisadores e desenvolvedores enfrentam o desafio constante de encontrar equipamentos que ofereçam não apenas precisão e qualidade, mas também versatilidade e confiabilidade incomparáveis ​​para aplicações de ponta. Digite oMáquina de revestimento iônico PVD– uma tecnologia fundamental para obter adesão, densidade e pureza superiores do filme. Na vanguarda desta inovação está oREAL Multi950, um sistema híbrido de deposição a vácuo PVD e PECVD projetado para transcender as limitações convencionais de revestimento. Esta máquina não é apenas uma ferramenta; é uma plataforma abrangente de P&D nascida da colaboração acadêmica e projetada para o futuro da engenharia de superfícies.

O coração da capacidade do Multi950 está em seu avançadoChapeamento de íons PVDtecnologia.

Ao contrário dos métodos PVD padrão, o revestimento iônico utiliza um ambiente de plasma de alta energia onde os íons participam ativamente do processo de formação do filme. O Multi950 integra isso poderosamente através de seu8 conjuntos de cátodos de arcoe um dedicadoFonte de íons lineares. Esta combinação garante intensa ionização plasmática, resultando em filmes com características excepcionais:

  • Adesão incomparável:

    A fonte de íons fornece gravação de plasma robusta e bombardeio de íons antes e durante a deposição. Isso limpa o substrato em nível atômico e cria uma interface graduada, resultando em adesão do filme que resiste a esforços mecânicos extremos e ciclos térmicos.

  • Densidade e qualidade superiores:

    Os íons de alta energia que chegam à superfície do substrato promovem o crescimento do filme denso e sem espaços vazios. Isso produz revestimentos com excelente dureza, resistência à corrosão e propriedades ópticas, cruciais para aplicações que vão desde filmes rígidos de proteção até filtros ópticos precisos.

  • Excelente cobertura de etapas:

    A deposição assistida por íons melhora o poder de lançamento, permitindo uma cobertura de revestimento mais uniforme em geometrias complexas, incluindo ferramentas com arestas vivas ou recursos rebaixados.

O design de "Câmara Octal" do Multi950 com umEstrutura de 2 portasoferece acessibilidade incomparável para manutenção e reconfiguração.

Sua genialidade émodularidade padronizada. Os cátodos de arco e pulverização catódica, juntamente com os flanges da fonte de íons, são projetados para troca flexível. Isso significa que o mesmo sistema central pode ser facilmente adaptado entre:

  • Chapeamento de íons Arc-PVD:

    Para revestimentos ultraduros e resistentes ao desgaste, como TiN, CrN ou DLC.

  • Sputtering MF:

    Para revestimentos ópticos metálicos e dielétricos de baixa tensão e alta qualidade.

  • Processos PECVD:

    Para depositar filmes avançados à base de carbono, como DLC transparente, em temperaturas mais baixas, ideal para substratos sensíveis.

EssePVD/PECVD híbridocapacidade permite a criação de novos filmes multicamadas e nanocompósitos em um único ciclo de bombeamento, combinando as melhores propriedades de diferentes tecnologias.

Nascido de uma colaboração com a equipe acadêmica da Universidade de Xangai liderada pelo professor Yigang Chen, o Multi950 é o epítome de um burro de carga de P&D.

Satisfaz processos que requerem diversas camadas metálicas (Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni) e compostos em substratos metálicos ou não metálicos. Seu design comprovado gerou sistemas especializados para aplicações de ponta, demonstrando sua versatilidade fundamental:

  • Revestimentos duros em ferramentas de corte e conformação
  • Filmes Ópticos

    para sensores e displays via pulverização catódica de magnetron.

  • Filmes DLC transparentes

    para fins de desgaste e anti-reflexo.

  • Filmes Funcionais

    para setores como aeroespacial, automotivo e dispositivos biomédicos.

Instalado em um espaço compacto (3.000 x 4.000 x 3.200 mm), o sistema não compromete a energia. Com umpotência total de 150KW, apresenta um grandeZona de uniformidade de plasma de φ650 x H750 mme umSistema de aquecimento 500°Ccom controle PID para gerenciamento térmico preciso. Apoiado por umGarantia limitada de 1 ano e suporte vitalício à máquina, a rede global de serviços da ROYAL TECH se estende da Europa (Polônia) à Ásia (Índia, Irã, Turquia) e às Américas (México), garantindo suporte especializado no local, treinamento em operação de máquinas, manutenção e receitas de processos de revestimento.

A máquina de deposição a vácuo híbrida ROYAL Multi950 é mais do que apenas umMáquina de revestimento iônico PVD; é um investimento estratégico em inovação. Ele capacita departamentos de P&D e linhas de produção piloto para explorar novas combinações de materiais, otimizar processos e desenvolver revestimentos proprietários com velocidade e flexibilidade. Ao integrar revestimento iônico PVD, pulverização catódica DC/MF e PECVD em uma plataforma modular confiável, elimina a necessidade de vários sistemas dedicados, reduzindo custos e acelerando o tempo de lançamento no mercado.

Pronto para redefinir os limites das suas capacidades de revestimento? Contate a ROYAL TECH hoje mesmo para discutir como o sistema híbrido Multi950 pode ser adaptado (OEM/ODM disponível) para atender aos desafios específicos de sua aplicação. Solicite uma consulta detalhada ou um documento técnico para explorar o futuro da deposição a vácuo.