Máquina de deposição de ouro, liga de ouro 18K, ouro 24K, máquina de revestimento de ouro rosa

 
Caixa do relógioSistema de pulverização de MF / Instalação de revestimento a vácuo por deposição de grafite PVD
 
 
 
Sistema de pulverização de MF para caixa de relógioé uma máquina de deposição de fontes múltiplas integrada para grafite geral, preto-jet, cor azul, etc. decorações em peças metálicas, objetos de aço inoxidável.Especialmente utilizado para produtos de luxo de classe alta como: eletrónica: telemóvel inteligente, câmara, computador portátil, golf, colher, garfo, faca, alça de porta, torneiras; jóias de anéis, colares, brincos, pulseiras, etc.
 
O sistema de pulverização MF tem várias fontes de deposição:
Fontes de arco circular dirigido para evaporação de alvos de metal sólido;
2 pares de cátodos de pulverização não blanqueados MF para deposição de uma camada fina de grafite;
Alimentação de Bias para bombardeamento de íons para formar a área de plasma para pré-tratamento;
"Fusão" superior a 100 W; ou
Criopompa (Polycold) para condensação molecular de água (opcional)
 
O que é o MF Sputtering?
 
Em comparação com a pulverização de corrente contínua e RF, a pulverização de média frequência tornou-se a principal técnica de pulverização de filme fino para produção em massa de revestimento,especialmente para a deposição em película de revestimentos de película dielétricos e não condutores em superfícies como revestimentos ópticos, painéis solares, camadas múltiplas, filme de material composto, etc.
Ele está substituindo o pulverização de RF devido ao fato de operar com kHz em vez de MHz para uma taxa de deposição muito mais rápida e também pode evitar o envenenamento do alvo durante a deposição de filme fino composto como DC.
 
Os alvos de pulverização MF sempre existiram com dois conjuntos. Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
 
Desempenho do sistema de pulverização MF
1Pressão de vácuo final: superior a 5,0 × 10^-6Torr.
2Pressão de vácuo de funcionamento: 1,0 × 10^-4Torr.
3. Tempo de bombeamento: de 1 atm para 1,0 × 10^-4Torr≤ 3 minutos (temperatura ambiente, câmara seca, limpa e vazia)
4Material metalizante (espuma + evaporação por arco): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, etc.
5Modelo de funcionamento: automático completo/semiautomático/manual
 
Estrutura do sistema de pulverização MF
A máquina de revestimento a vácuo contém o sistema completado chave listado abaixo:
1Câmara de vácuo
2. Sistema de bombeamento de vácuo (pacote de bombeamento de apoio)
3Sistema de bombeamento a vácuo elevado (bomba molecular de suspensão magnética)
4Sistema elétrico de controlo e operação
5Sistema de instalações auxiliares (subsistema)
6Sistema de deposição: catodo de pulverização MF, fonte de alimentação MF, fonte de iões de alimentação Bias para opcional
 
Tamanhos do sistema de pulverização MF para decoração de grafito metálico:
Dimensão interna da câmara: Diâmetro 1200 mm ~ 1600 mm
Altura interna da câmara: 1250 mm ~ 1300 mm
 
Os tamanhos de máquina personalizados também estão disponíveis com base na demanda especular de produtos 3D.
 
Especificações do sistema de pulverização de MF RTAC1250-SPMF
 

 
 

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