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Detalhes dos produtos

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Máquina de revestimento do vácuo de PVD
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Tantal ((Ta) Sistema de deposição por pulverização magnética-RT1000-Ta

Tantal ((Ta) Sistema de deposição por pulverização magnética-RT1000-Ta

Nome da marca: ROYAL
Número do modelo: RT1ação
MOQ: 1 grupo
preço: negociável
Condições de pagamento: L/C,T/T
Capacidade de abastecimento: 5 grupos pelo mês
Informações detalhadas
Lugar de origem:
FEITO EM CHINA
Certificação:
CE
Nome:
Máquina de deposição por pulverização PVD de tântalo
Revestimentos:
Tântalo, ouro, prata, etc.
Tecnologia:
Pulso de pulso de DC
Aplicação:
Indústria de microeletrónica, instrumentos médicos, revestimentos de peças resistentes à corrosão,
Propriedades da película:
O tântalo é mais utilizado na indústria electrónica como revestimento protetor devido à sua boa resi
Localização da fábrica:
Cidade de Shanghai, China
Serviço mundial:
Polônia - Europa; Irã Ásia & Médio Oriente ocidentais, Turquia, Índia, México Ámérica do Sul
Serviço de treinamento:
Operação de máquina, manutenção, receitas de revestimento do processo, programa
Garantia:
Garantia limitada 1 ano para livre, toda a vida para a máquina
OEM e ODM:
disponíveis, nós apoiamos o projeto e a fabricação específicos
Detalhes da embalagem:
Padrão da exportação, para ser embalado em uns novos casos/caixas, em apropriados para o oceano/ar i
Habilidade da fonte:
5 grupos pelo mês
Destacar:

vacuum coating plant

,

high vacuum coating machine

Descrição do produto

Magnetron Sputtering é amplamente utilizado para depositar metais refratários como tântalo, titânio, tungstênio,Nióbio, que exigiria temperaturas de deposição muito elevadas, e metais preciosos: Ouro e Prata e que também é usado para a deposição de metais com baixos pontos de fusão como cobre, alumínio, níquel, cromo, etc.

O tântalo é mais utilizado na electrónicaIndústriacomo revestimento protetor devido à sua boa resistência à erosão.

Aplicações da película fina de tântalo pulverizado:
1- indústria da microelectrónica, uma vez que as películas podem ser pulverizadas reactivamente e, assim, a resistividade e o coeficiente de temperatura da resistência podem ser controlados;

  1. Instrumentos médicos como implantes corporais pela sua elevada propriedade de biocompatibilidade;
  2. Revestimentos em partes resistentes à corrosão, tais como termo-poços, corpos de válvulas e elementos de fixação;
  3. O tântalo pulverizado pode também ser utilizado como uma barreira eficaz de resistência à corrosão se o revestimento for contínuo, defeituoso e aderente ao substrato..

Tantal ((Ta) Sistema de deposição por pulverização magnética-RT1000-Ta 0Tantal ((Ta) Sistema de deposição por pulverização magnética-RT1000-Ta 1


Vantagens técnicas

  1. Aplica-se um carrinho normalizado que permite o carregamento/descarregamento fácil e seguro dos suportes de substrato e das peças de trabalho dentro/fora da câmara de deposição
  2. O sistema está bloqueado de segurança para evitar uma operação incorreta ou práticas inseguras
  3. Os aquecedores de substrato são fornecidos que montados no centro da câmara, PID controlado termocouple para alta precisão, para melhorar a adesão do filme de condensação
  4. Configurações de bombas de vácuo fortes com bomba molecular de suspensão magnética através de uma válvula de porta conectada à câmara; apoiada com bomba de raízes da Leybold e bomba de veleira rotativa de dois estágios, bomba mecânica.
  5. A fonte de plasma ionizado de alta energia é aplicada com este sistema para garantir a uniformidade e a densidade.


    Tantal ((Ta) Sistema de deposição por pulverização magnética-RT1000-Ta 2Tantal ((Ta) Sistema de deposição por pulverização magnética-RT1000-Ta 3


Sistema padronizado de deposição por pulverização de Tântalo da Royal Technology:

Configurações principais
Modelo RT1ação
TECNOLOGIA

Pulso de pulso de magnetron DC

Revestimento por arco catódico (opcional, determinado por processo de revestimento)

Material da câmara Aço inoxidável (S304)
Tamanho da câmara Φ1000*1000 mm (H)
Tipo de câmara Forma D, câmara cilíndrica
RECK DE ROTAÇÃO e SISTEMA JIG Sistema de condução por satélite ou sistema de condução central
Fontes de energia

Fonte de alimentação de pulverização em corrente contínua: 2 a 4 conjuntos
Bias Fornecimento de energia: 1 conjunto

Fonte de íons: 1 conjunto

MATERIAL DE DEPÓSITO Ta, Ti/Cr/TiAl, Au, Ag, Cu, etc.
Fonte de depósito Cátodos de pulverização plana + cátodos de arco circular
Controle PLC (controlador lógico programável) + IPC
(modelos de operação manual + automática + semi-automática)
Sistema de bombagem Bomba de válvula giratória: SV300B ¢ 1 conjunto (Leybold)
Bomba de raízes: WAU1001 1 conjunto (Leybold)
Bomba de retenção: D60C ¢ 1 conjunto (Leybold)
Bomba molecular de suspensão magnética:
MAG2200 2 sest (Leybold)
Controlador de fluxo de massa de gás 2 canais: Ar e N2
Método de vácuo Inficon ou Leybold
Sistema de segurança Numerosos bloqueios de segurança para proteger os operadores e os equipamentos
Aquecimento Caldeiras: 20 kW. Temperatura máxima: 450°C
Frigorificação Frigorífico industrial (água fria)
Power Max. 100 kW (aprox.)
Consumo médio de energia 45 KW (aprox.)
Peso bruto T (aproximadamente)
PRENTA DE PÉ (L*W*H) 4000*4000*3600 MM
Energia elétrica

Linha AC 380V/3 fases/50HZ / 5


Insite:

Tempo de construção: 2018

Local: China

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