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| Nome da marca: | ROYAL |
| Número do modelo: | RTAC-SP |
| MOQ: | 1 conjunto |
| preço: | negociável |
| Condições de pagamento: | L/C, D/A, D/P, T/T |
| Capacidade de abastecimento: | 10 conjuntos por mês |
Vácuo de PVD que metaliza o equipamento nas válvulas de cobre, encaixes do encanador/máquina chapeamento de Chrome
Equipamento de cobre do chapeamento das válvulas e dos tampões PVD, encanamento da liga de carcaça e máquina de cromagem de Plumbings
O que é o depósito do salpico (igualmente nomeado como o magnétron que engasga o depósito)
Engasgar é um processo do depósito do metal onde o material de alvo não seja vaporizado usando o calor, mas seus átomos do metal são desalojados fisicamente do alvo pela colisão de uma partícula de bombardeamento. A distância do alvo à parte em uma câmara engasgar é muito mais curto do que no depósito de vácuo. Engasgar é feito igualmente sob um vácuo muito mais alto. A fonte própria engasgar pode ser feita dos elementos, das ligas, das misturas, ou dos compostos. Este formulário do depósito do metal é de uso geral na fabricação do semicondutor, no vidro arquitetónico, em revestimentos reflexivos, em CD dos compacts disc, e em revestimentos decorativos.
O que é o depósito de vapor do arco (igualmente nomeado como o processo catódico do chapeamento do arco)
O depósito catódico ou o arco-PVD do arco são uma técnica física do depósito de vapor em que um arco bonde é usado para vaporizar o material de um alvo do cátodo. O material vaporizado condensa-se então em uma carcaça, formando um filme fino. A técnica pode ser usada para depositar filmes metálicos, cerâmicos, e compostos. Arco evaporação processo começa com golpeando de alto atual, baixo tensão arco em superfície de cátodo (conhecido como o alvo) que causa um pequeno (geralmente alguns micrômetros largos), área se emitindo altamente energética conhecida como um ponto de cátodo. A temperatura localizada no ponto de cátodo é extremamente alta (em torno de 15000℃), que conduz a um jato alto do evlocity (10km/sec) do material vaporizado do cátodo, deixando uma cratera atrás na superfície do cátodo.
O equipamento de cobre RTAC950-SP do chapeamento das válvulas e dos tampões PVD, contém fontes catódicas da fonte do arco, do salpico do MF e da C.C., mais o dispositivo da fonte de íon, que pode cobrir todos os materiais da carcaça dos tipos: metal ligas, bronze, Zamak (liga de zinco), plástico, eletrônica, encanamento e plumbings, válvulas dos encaixes do encanador, molhar do sistema e tampões; válvulas médicas e industriais etc. A finalidade do processo é principalmente substituir o cromo que galvaniza que é perigoso para o ser humano e o ambiente.
Características de projeto de RTAC950-SP:
1. flexibilidade: as fontes do arco e do salpico, flanges de montagem lineares dos dispositivos da fonte de íon são estandardizadas para a troca flexível
2. versatilidade: disponível para a variedade do depósito de metais e ligas baixas, revestimentos óticos e revestimentos duros, revestimentos macios. Filmes compostos e filmes de lubrificação contínuos nas carcaças metálicas e não metálicas dos materiais
3. projeto direto: estrutura de porta 2, parte dianteira e abertura traseira para a manutenção fácil.
Disposição de RTAC950-SP - máquina do depósito do filme fino de PVD
Encaixes do encanador e válvulas de cobre, amostras do chapeamento dos tampões PVD
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