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Detalhes dos produtos

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Sistema de revestimento de DLC PVD e PECVD
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Máquina de deposição a vácuo híbrida PVD e PECVD-RT-Multi950

Máquina de deposição a vácuo híbrida PVD e PECVD-RT-Multi950

Nome da marca: ROYAL
Número do modelo: Multi950
MOQ: 1 conjunto
preço: depends on
Condições de pagamento: L/C,T/T
Capacidade de abastecimento: 10 conjuntos por mês
Informações detalhadas
Lugar de origem:
China
Certificação:
CE
Modelo de equipamento:
Estrutura poliédrica
Fontes do depósito:
Arco + pulverização DC/MF
Tecnologia:
Processo PECVD, revestimento PVD
Materiais:
SS304/SS316L
Aplicações:
DLC, filmes duros, revestimento de filme óptico por Magnetron Sputtering
Localização da fábrica:
Cidade de Shanghai, China
Serviço mundial:
Polônia - Europa; Irã Ásia & Médio Oriente ocidentais, Turquia, Índia, México Ámérica do Sul
Serviço de treinamento:
Operação de máquina, manutenção, receitas de revestimento do processo, programa
Garantia:
Garantia limitada 1 ano para livre, toda a vida para a máquina
OEM e ODM:
disponíveis, nós apoiamos o projeto e a fabricação específicos
Detalhes da embalagem:
Exporte o padrão, para ser embalado em uns novos casos/caixas, em apropriados para o oceano/ar e o t
Habilidade da fonte:
10 conjuntos por mês
Destacar:

silver plating machine

,

vacuum plating equipment

Descrição do produto

Ta integração das tecnologias PVD e PECVD numa máquina de revestimento híbrida proporciona uma série de vantagens que podem conduzir a uma melhoria da qualidade, versatilidade, controlo, eficiência e economia de custos do revestimento,personalização, e sustentabilidade ambiental.

O Multi950 é o marco dos sistemas de revestimento de design avançado para a Royal Tech.A sua dedicação criativa e altruísta são valores ilimitados e inspiraram a nossa equipa..

No ano de 2018, tivemos outro projeto de cooperação com Pressor Chen, a deposição de material C-60 por
Método de evaporação térmica por indução, agradecemos sinceramente ao Sr. Yimou Yang e ao Professor Chen a liderança e instrução em cada projeto inovador.

Propriedades da máquina Multi950:

Compatível,
Projeto modular padrão,
Flexível,
Confiável,
Câmara octal,
Estrutura de duas portas para facilitar o acesso,
Processos PVD + PECVD.


Características do projeto:


1Flexibilidade: os catodos de arco e de pulverização, as flanges de montagem de fontes iônicas são padronizadas para troca flexível;
2- versatilidade: pode depositar uma variedade de metais comuns e ligas; revestimentos ópticos, revestimentos duros, revestimentos moles, revestimentosPelículas compostas e películas lubrificantes sólidas nos substratos de materiais metálicos e não metálicos.
3- Design reto para a frente: estrutura de duas portas, abertura dianteira e traseira para facilitar a manutenção.

A máquina Multi950 é um sistema de deposição de vácuo personalizado de múltiplas funções para P&D.Finalmente confirmámos o projeto e as configurações para cumprir as suas aplicações de I&D.Este sistema é capaz de depositar filme DLC transparente com processo PECVD, revestimentos duros em ferramentas e filme óptico com cátodo de pulverização.Desenvolvemos 3 outros sistemas de revestimento depois disso.:
1. Revestimento de placas bipolares para veículos elétricos a célula de combustível- FCEV1213,
2. Cobre cerâmico diretamente revestido- DPC1215,
3Sistema de pulverização flexível RTSP1215.
Estes 4 modelos de máquina são todos com câmara Octal, desempenho flexível e confiável são amplamente utilizados em várias aplicações.Para satisfazer os processos de revestimento, são necessárias várias camadas metálicas diferentes.: Al, Cr, Cu, Au, Ag, Ni, Sn, SS e muitos outros metais não-ferromagnéticos;
Além da unidade de fonte de íons, aumenta de forma eficiente a adesão das películas em diferentes materiais de substrato com o seu desempenho de gravação por plasma e o processo PECVD para depositar algumas camadas à base de carbono.

Multi950 - Especificações técnicas


Descrição Multi-950

Câmara de deposição (mm)

Largura x Profundidade x Altura

1050 x 950 x 1350




Fontes de deposição

1 par de catodos de pulverização MF
1 par de PECVD
8 conjuntos de cátodos de arco
Fonte de íons lineares 1 conjunto
Zona de uniformidade do plasma (mm) φ650 x H750
Carrossel 6 x φ300




Potências (KW)

Bias: 1 x 36
MF: 1 x 36
PECVD: 1 x 36
Arco: 8 x 5
Fonte de íons: 1 x 5
Sistema de controlo de gás MFC: 4 + 1
Sistema de aquecimento 500°C, com controlo PID do par térmico
Válvula de entrada de vácuo elevado 2
Bomba turbomolecular 2 x 2000L/S
Bomba de raízes 1 x 300 L/S
Bomba de válvulas rotativas 1 x 90 m3/h + 1 x 48 m3/h
Impressão (L x O x H) mm 3000 * 4000 * 3200
Potência total (KW) 150


As equipas de serviço e engenharia da Royal Tech fornecem suporte ao cliente no local, entre em contato conosco para suas aplicações!