Disposição da máquina R2R
As características do metalizador de vácuo de alumínio RT-R2R suportam uma série de funcionalidades que o tornam a escolha ideal para qualquer oficina industrial.
Em primeiro lugar, possui uma elevada taxa de transferência, o que ajuda a reduzir os custos de produção.seu processo de espaço livre elimina a necessidade de uma linha de tambor e corte de bordaIsto torna-o particularmente amigável para substratos de baixa tensão como CPP, BOPP e LDPE.
Além disso, possui alimentações de fios individuais que o tornam muito fácil de usar. A manutenção também é fácil. O mecanismo de manuseio da teia com acionamentos de servomotores dá controle de precisão em qualquer velocidade da linha.Por fim..., o design compacto ocupa um espaço mínimo para facilitar a instalação.
O MultiWeb Coater fornece as seguintes características principais: | ||||||||
A. Uma câmara dividida em zonas de pressão múltipla para acomodar várias fontes de deposição. | ||||||||
B. Capacidades de deposição simultânea de múltiplas fontes numa única passagem de rede, para revestimento multicamadas. | ||||||||
C. A direção de enrolamento da teia reversível permite a deposição de camadas ilimitadas sem quebrar o vácuo. | ||||||||
D. Mecanismos de manipulação de teia de precisão com guia de borda para permitir passagens múltiplas sem perda de alinhamento (opcional). | ||||||||
E. Sistema de acionamento de webs invertidos AC para controlo preciso de múltiplas velocidades de webs. | ||||||||
F. Sistemas de monitorização de espessura óptica e/ou de resistência em linha, para controlar com precisão a espessura e a uniformidade da deposição (facultativo). | ||||||||
G. A câmara é construída em SUS304L inoxidável com componentes de gaseificação baixa para assegurar um vácuo mais profundo. | ||||||||
H. bombeamento a vácuo por uma combinação de bomba turbo-molecular e criogénica a baixa temperatura, para proporcionar um vácuo limpo sem umidade ou contaminação por óleo. | ||||||||
Filmes de deposição | ||||||||
1Material de substrato: PET, PEN, PES, PI, PC, PA, TAC... | ||||||||
2Espessura do substrato: 15 a 300 μm | ||||||||
3Métodos de deposição: AC Reativo para SiO2 ((Dielectrico); DC pulsado para ITO (Metal & Condutor) | ||||||||
4TCO do condutor de óxido: ITO, AZO, IZO... | ||||||||
5Condutor de metal: Al, Cu, Mo, Ag... | ||||||||
6- filme óptico: Ta2O5, Nb2O5, SiO2, TiO2... | ||||||||
7Semicondutores: ZnO, InGaZnO... | ||||||||
8Isolador: SiO2, SiNx, AlOx, AlNx... | ||||||||
9Uniformidade: ± 5% em toda a teia | ||||||||
Especificações gerais | ||||||||
Corpo de câmara de vácuo: zonas de pressão múltipla de câmara única | ||||||||
Carros móveis: Carroça | ||||||||
Zona de deposição: 2 X Zona de pulverização (opcional: 3 Zona de pulverização) | ||||||||
Fonte de pulverização: 2 X Fonte de pulverização de catodo duplo (opcional: 3 Fontes de pulverização de catodo duplo) | ||||||||
Pré-tratador de substrato: Fonte de íons lineares | ||||||||
Largura da teia: 1300 mm | ||||||||
Diâmetro de enrolamento: Φ600 mm Max | ||||||||
Direção de enrolamento: bidirecional | ||||||||
Espessura do substrato: 15~300 μm | ||||||||
Velocidade da Linha Web:0.5~10M/min | ||||||||
Tensão da rede: 5,0PLI Max 0,5PLI Min | ||||||||
Alinhamento da teia: ±3 mm (uma passagem) | ||||||||
Bomba de hi-vácuo: Bomba turbo | ||||||||
Bomba de vácuo bruto: combinação de bomba seca e sopro | ||||||||
Bomba de humidade: polifria criogénica | ||||||||
Controle da espessura da deposição: monitorização (facultativo) | ||||||||
a) Transmissão óptica; b) Resistência de corrente Eddy | ||||||||
Função do sistema: Função do sistema informático baseado em PLC | ||||||||
Câmara de vácuo | ||||||||
A câmara de vácuo é construída como uma caixa horizontal feita de aço inoxidável polido SUS304L, com aberturas de flange em uma extremidade.A secção inferior da zona dividida contém a fonte de deposição com acessórios, enquanto a secção superior irá acomodar o carrinho da teia. | ||||||||
Construção da câmara: Caixa horizontal com uma abertura em flange | ||||||||
Estrutura da câmara: zona multipressão de câmara única | ||||||||
Quadro da câmara: aço leve SS41, pintado | ||||||||
Material da câmara: SUS304L Aço inoxidável polido | ||||||||
Divisor de zonas de pressão: chapa de alumínio | ||||||||
Ver material do porto: policarbonato | ||||||||
Zonas de pressão de vácuo: 4 (1 zona de enrolamento, 2 zonas de deposição, 1 zona tampão) |
O processo de metalização a vácuo R2R (Roll-to-Roll) envolve o depósito de uma fina camada de metal, tipicamente alumínio, em um substrato flexível de forma contínua.Aqui estão os passos principais envolvidos no processo:
1.Descolagem do substrato: O processo começa com um rolo de material de substrato flexível, que é desmontado e inserido na máquina de metalização.
2.Limpeza e pré-tratamentoO substrato pode passar por uma secção de limpeza para remover quaisquer contaminantes de superfície que possam afectar a adesão do revestimento metálico.O substrato pode ser submetido a processos de pré-tratamento, tais como tratamento de corona ou aplicação de primer, para melhorar a ligação entre o substrato e a camada metálica..
3.Câmara de metalização: O coração do equipamento de metalização a vácuo R2R é a câmara de metalização.A câmara consiste tipicamente de uma série de fontes de evaporação ou cátodos, que contêm o metal (como o alumínio) a depositar.
4.Evaporação de metaisO metal dentro das fontes de evaporação é aquecido até o seu ponto de evaporação.Os átomos de metal vaporizados viajam em linhas retas e se condensam no substrato em movimento, formando uma camada metálica fina e uniforme.
5.Refrigeração do substrato: Após o processo de metalização, o substrato revestido passa por uma secção de arrefecimento, onde a camada metálica solidifica e estabiliza.
6.Enrolamento do substrato: Por fim, o substrato metalizado é enrolado num rolo, pronto para posterior processamento ou utilização em várias aplicações.
Vale a pena notar que os detalhes específicos e parâmetros do processo de metalização de vácuo da teia R2R podem variar dependendo de fatores como o revestimento de metal desejado, o material do substrato,e aplicação pretendidaO processo pode ser otimizado para controlar fatores como espessura do revestimento, adesão e uniformidade para atender a requisitos específicos.
A metalização a vácuo R2R oferece vantagens como altas velocidades de produção, controle preciso da espessura do revestimento, excelente adesão e capacidade de processar uma ampla gama de substratos flexíveis,tornando-se uma técnica versátil e amplamente utilizada em indústrias como embalagens, eletrônicos, automotivos e muito mais.
Distribuição dos catodos de pulverização
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