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| Nome da marca: | ROYAL |
| Número do modelo: | RTSP |
| MOQ: | 1 conjunto |
| preço: | negociável |
| Condições de pagamento: | L/C,T/T |
| Capacidade de abastecimento: | 5 SETS POR MÊS |
A prata de revestimento direto PVD em filtros dielétricos cerâmicos é uma tecnologia de revestimento avançada aplicada com estações base 5G e outros semicondutores para indústrias eletrônicas.Uma aplicação típica é o Substrato Radiante CerâmicoDeposição de película condutora de prata/cobre em óxido de alumínio (Al2O3), substratos de AlN por tecnologia de pulverização a vácuo PVD,tem sobretudo uma grande vantagem em relação aos métodos de fabrico tradicionais: DBC LTCC HTCC, que tem custos de produção muito mais baixos. Royal Technology’s team collaborated with our customer to develop the PVD Silver Plating process successfully applying with sputtering technology which can replace conventional liquid silver brushing process.
Aplicações típicas
Só para citar alguns, para mais aplicações, por favor contacte a Royal Tech.
O sistema RTAS1215 batch Sputtering é a versão atualizada, o mais novo sistema tem várias vantagens:
Processo mais eficiente
1- O revestimento de dois lados está disponível pelo projeto de fixação de rotação
2Até 8 flanges de cátodo planos padrão para fontes múltiplas
3. Grande capacidade de até 2,2 m2 de chips cerâmicos por ciclo
4. Totalmente automático, PLC + Touch Screen, sistema de controlo ONE-touch
Baixo Custo de Produção
1Equipado com 2 conjuntos de bombas moleculares de suspensão magnética, tempo de arranque rápido, manutenção gratuita
2Potência máxima de aquecimento
3- Forma octogonal da câmara para utilização óptima do espaço, até 8 fontes de arco e 4 cátodos de pulverização para deposição rápida de revestimentos
Especificações técnicas
Modelo: RTSP-Ag1215
Altura da câmara (mm): 1500
Diâmetro da câmara (mm): φ1200
Flanca de montagem de catodos de pulverização: 4
Flange de montagem da fonte de íons: 1
Arco catódico de montagem de flange: 8
Satélites (mm): 16 x Φ150
Potência de desvio pulsado (KW): 36
Potência de pulverização (KW): DC36 + MF36
Potência de arco ((KW): 8 x 5
Potência da fonte iônica (KW): 5
Potência de aquecimento (KW): 36
Altura efetiva do revestimento (mm): 1020
Bomba molecular de suspensão magnética: 2 x 3300 L/S
Bomba de raízes: 1 x 1000 m3/h
Bomba de válvula rotativa: 1 x 300 m3/h
Bomba de retenção: 1 x 60 m3/h
Capacidade: 2,2 m2
Área de instalação (L x L x H) mm: 4200*6000*3500
Insite
Tempo construído: desde 2016
Quantidade: 3 conjuntos
Local: China
Em comparação com a enorme procura do mercado, a produtividade do sistema por lotes é baixa;Temos dedicado o desenvolvimento do sistema de pulverização em linha (continua a linha de deposição de pulverização) com dispositivos de carregamento / descarregamento automático robóticoQualquer pessoa interessada neste sistema, por favor contacte o nosso técnico para mais especificações.
