Máquina de revestimento por pulverização catódica de magnetron de filme fino de ouro/cobre/unidade de revestimento de filme condutor de nylon têxtil Cu
1.Nylon Têxtil CobreRevestidor a Vácuo Magnetron Sputtering
1) controlabilidade da espessura do filme e repetibilidade do poço, pode ser um sistema confiável de espessura pré-chapeada dos filmes e pulverização em uma superfície maior de filme uniforme;
2) A adesão do filme e do substrato é muito boa.Alguns da alta energia de átomos pulverizados para produzir diferentes níveis de fenômeno de injeção, camada de pseudo-difusão formada na camada de substrato de átomos pulverizados e átomos de substrato fundidos entre si;
3) Preparação de material especial do filme, você pode usar diferentes materiais e filme híbrido sputtering, filme composto, também pode ser pulverizado no filme de ouro de imitação de estanho.
2. Cobre Têxtil de NylonEspecificações do Revestimento a Vácuo Magnetron Sputtering
| Máquina de Revestimento por Sputtering Magnetron | ||||||
| atuação | RTSP-700 | RTSP-900 | RTSP-1000 | RTSP-1250 | RTSP-1400 | RTSP-1600 |
| Tamanho da câmara de revestimento | 700*H900mm | 900*H1100mm | 1000*H1200mm | 1250*H1350mm | 1400*H1600mm | 1600*H1800mm |
| Tipo de fonte de alimentação | Fonte de alimentação de filamento, fonte de alimentação de polarização de pulso, fonte de alimentação DC magnetron, fonte de alimentação magnetron de frequência intermediária, fonte de alimentação magnetron de radiofrequência, fonte de ionização linear | |||||
| Estrutura da câmara de vácuo | Porta dupla vertical, estrutura vertical da porta dianteira, sistema de exaustão de ar traseiro | |||||
| Material da câmara de vácuo | Cavidade de aço inoxidável de alta qualidade | |||||
| Limite de vácuo | 6,0*10-4Pa | |||||
| Tempo de bombeamento (sem carga) | Bombeie a atmosfera para 8,0*10-3>Pa ≤15 minutos | |||||
| Sistema de aquisição de vácuo | Bomba de difusão ou bomba molecular + bomba Roots + bomba mecânica + bomba de palhetas rotativas (o modelo específico pode ser configurado de acordo com os requisitos do cliente) | |||||
| Modo de revestimento | Revestimento de magnetron sputtering | |||||
| Tipo de filme | Filme metálico, filme reativo, filme composto, filme multicamada e filme semicondutor | |||||
| Tipo de alvo Magnetron | Alvo de magnetron retangular, alvo de magnetron cilíndrico e alvos de magnetron gêmeos | |||||
| Potência de alimentação do magnetron e número de alvos do magnetron | Selecione de acordo com diferentes processos de revestimento e requisitos do cliente | |||||
| Fonte de alimentação de polarização | 10KW/1 unidade | 20KW/1 unidade | 20KW/1 unidade | 30KW/1 unidade | 40KW/1 unidade | 50KW/1 unidade |
| Modo de rotação da mesa giratória da peça de trabalho | Revolução planetária e autorrotação, regulação de velocidade de frequência variável (controlável e ajustável) | |||||
| Gás de processo | Sistema de exibição e controle de fluxo de gás de processo de 3 ou 4 caminhos, sistema de gaseificação automático seletivo | |||||
| Modo de resfriamento | Modo de resfriamento de circulação de água, torre de água de resfriamento ou resfriador de água industrial ou sistema de resfriamento profundo.(Fornecido pelos clientes) | |||||
| Modo de controle | Modo de integração manual/automático, operação de tela sensível ao toque, PLC ou controle por computador | |||||
| Poder total | 30KW | 35KW | 40KW | 50KW | 65KW | 80KW |
| Alarme e proteção | Alarme a falta de água, sobrecorrente e sobretensão, circuito aberto e outras condições anormais de bombas, alvos e assim por diante e execute medidas de proteção relevantes e função de intertravamento elétrico | |||||
| Área de equipamentos | W2m*L3m | L2,5m*L3,5m | W3m*L4m | W4m*L5m | L4,5m*L6m | W5m*L7m |
| Outros parâmetros técnicos | Pressão da Água ≥0,2MPa, Temperatura da Água ≤25°C, Pressão do Ar: 0,5-0,8MPa | |||||
| Observações | A configuração específica do equipamento de revestimento pode ser projetada de acordo com os requisitos do processo de produtos de revestimento | |||||
Nylon Têxtil CobreAmostra de Revestimento a Vácuo de Magnetron Sputtering
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