Máquina de Revestimento por Sputtering DC Magnetron / Sistema de Sputtering DC
Modelos de magnetron sputtering: DC Sputtering, MF Sputtering, RF Sputtering
O que é DC Sputtering?
DC Sputtering usado principalmente para pulverizar alvos de metal puro como: Cromo, Titânio, Alumínio, Cobre, Aço Inoxidável, Níquel, Prata, Ouro para filmes de alta condutividade.
O DC Sputtering é uma técnica de revestimento de deposição de vapor físico de filme fino (PVD) em que um material alvo a ser usado como o revestimento é bombardeado com moléculas de gás ionizado, fazendo com que os átomos sejam "pulverizados" no plasma.Esses átomos vaporizados são então depositados quando se condensam como um filme fino sobre o substrato a ser revestido.
Sputtering DC é o tipo mais básico e barato de sputtering para deposição de metal PVD e materiais de revestimento alvo eletricamente condutivos.Duas grandes vantagens do DC como fonte de energia para este processo é que ele é fácil de controlar e é uma opção de baixo custo se você estiver fazendo deposição de metal para revestimento.
DC Sputtering é usado extensivamente na indústria de semicondutores criando circuitos de microchip no nível molecular.É usado para revestimentos de ouro de joias, relógios e outros acabamentos decorativos, para revestimentos não refletivos em vidros e componentes ópticos, bem como para plásticos metalizados de embalagens, espelhos de automóveis, refletores de iluminação de automóveis, rodas e cubos de automóveis, etc.
Máquina de revestimento por pulverização catódica DC Magnetronatuação
1. Pressão de vácuo final: melhor que 5,0 × 10-6Torr.
2. Pressão de Vácuo Operacional: 1,0×10-4Torr.
3. Tempo de bombeamento: de 1 atm a 1,0×10-4Torr≤ 3 minutos (temperatura ambiente, câmara seca, limpa e vazia)
4. Material de metalização (sputtering + evaporação do arco): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, etc.
5. Modelo Operacional: Completo Automaticamente/Semi-Auto/ Manualmente
Estrutura da máquina de revestimento por pulverização catódica DC Magnetron
A máquina de revestimento a vácuo contém o sistema completo de chave listado abaixo:
1. Câmara de Vácuo
2. Sistema de Bombeamento a Vácuo Rouhging (Pacote de Bomba de Apoio)
3. Sistema de bombeamento de alto vácuo (bomba molecular de suspensão magnética)
4. Sistema Elétrico de Controle e Operação
5. Sistema de Instalação Auxiliar (Subsistema)
6. Sistema de deposição: cátodo de pulverização DC, fonte de alimentação DC, fonte de íon da fonte de alimentação de polarização para opcional
Máquina de revestimento por pulverização catódica DC MagnetronEspecificações
| RTSP1250-DC | |||||||
| MODELO | RTSP1250-DC | ||||||
| TECNOLOGIA | Sputtering Magnetron (DC) + Chapeamento de Íons | ||||||
| MATERIAL | Aço inoxidável (S304) | ||||||
| TAMANHO DA CÂMARA | Φ1250*H1250mm | ||||||
| TIPO DE CÂMARA | Cilindro, vertical, 1 porta | ||||||
| SISTEMA DE PULSAÇÃO | Design exclusivo para deposição de filme preto fino | ||||||
| MATERIAL DE DEPOSIÇÃO | Alumínio, Prata, Cobre, Cromo, Aço Inoxidável, Níquel, Titânio | ||||||
| FONTE DE DEPOSIÇÃO | Alvos de Sputtering Cilíndricos / Planares + 7 Fontes de Arco Catódico Direcionado | ||||||
| GÁS | MFC- 4 vias, Ar, N2, O2, C2H2 | ||||||
| AO CONTROLE | CLP (Controlador Lógico Programável) + Tela sensível ao toque |
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| SISTEMA DE BOMBA | SV300B - 1 conjunto (Leybold) | ||||||
| WAU1001 - 1 conjuntos (Leybold) | |||||||
| D60T- 2 conjuntos (Leybold) | |||||||
| Bombas Moleculares Turbo: 2* F-400/3500 | |||||||
| PRÉ-TRATAMENTO | Fonte de alimentação de polarização: 1*36 KW | ||||||
| SISTEMA DE SEGURANÇA | Numerosos intertravamentos de segurança para proteger os operadores e equipamento |
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| RESFRIAMENTO | Água fria | ||||||
| ENERGIA ELÉTRICA | 480V/3 fases/60HZ (compatível com EUA) | ||||||
| 460V/3 fases/50HZ (em conformidade com a Ásia) | |||||||
| 380V/3 fases/50HZ (em conformidade com a UE-CE) | |||||||
| PEGADA | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| PESO TOTAL | 7,0T | ||||||
| PEGADA | (L*W*H) 5000*4000*4000MM | ||||||
| TEMPO DE CICLO | 30~40 minutos (dependendo do material do substrato, geometria do substrato e condições ambientais) |
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| POTÊNCIA MÁX.. | 155KW | ||||||
| CONSUMO MÉDIO DE ENERGIA (APROX.) | 75KW | ||||||
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