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O chapeamento de prata de PVD para o dielétrico cerâmico da estação base 5G filtra a máquina de prata do depósito engasgar do AG

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O chapeamento de prata de PVD para o dielétrico cerâmico da estação base 5G filtra a máquina de prata do depósito engasgar do AG
Características Galeria Descrição de produto Peça umas citações
Características
Especificações
Câmara: Orientação vertical, 1 porta,
Material: Aço inoxidável 304/316
Tecnologia de vácuo: Magnetron Sputtering Deposition System, máquina de pulverização planar DC
Películas de Revestimento: Pulverização de alvo de prata Ag
Aplicações industriais: Revestimento a vácuo PVD de filme de prata Ag, filtros dielétricos cerâmicos de estação base 5G
Lugar da fábrica: Cidade de Shanghai, China
Serviço mundial: Polônia - Europa; Irã Ásia & Médio Oriente ocidentais, Turquia, Índia, México Ámérica do Sul
Serviço de treinamento: Operação de máquina, manutenção, receitas de revestimento do processo, programa
garantia: Garantia limitada 1 ano para livre, toda a vida para a máquina
OEM & ODM: disponíveis, nós apoiamos o projeto e a fabricação específicos
Realçar:

Máquina de prata do chapeamento PVD

,

Engasgando a máquina do depósito PVD

,

5G máquina da estação base PVD

Informação básica
Lugar de origem: Feito em China
Marca: ROYAL
Certificação: CE
Número do modelo: RTSP
Condições de Pagamento e Envio
Detalhes da embalagem: Exporte o padrão, para ser embalado em uns novos casos/caixas, em apropriados para o oceano/ar e o t
Tempo de entrega: 10 semanas
Termos de pagamento: L/C, T/T
Habilidade da fonte: 5 grupos pelo mês
Descrição de produto

 

 

O PVD Direct Plating Silver em filtros dielétricos de cerâmica é uma tecnologia de revestimento avançada aplicada com estação base 5G e outros semicondutores para indústrias eletrônicas.Uma aplicação típica é o substrato cerâmico radiante.A deposição de película condutora de Prata/Cobre em Óxido de Alumínio (Al2O3), substratos de AlN pela tecnologia de pulverização catódica a vácuo PVD, tem acima de tudo uma grande vantagem em comparação com os métodos de fabricação tradicionais: DBC LTCC HTCC, que tem custos de produção muito mais baixos.A equipe da Royal Technology colaborou com nosso cliente para desenvolver o processo PVD Silver Plating com sucesso, aplicando com tecnologia de pulverização catódica que pode substituir o processo convencional de escovação de prata líquida.

Aplicações Típicas

  • HBLED
  • Substratos para células concentradoras solares
  • Empacotamento de semicondutores de potência, incluindo controle de motores automotivos
  • Eletrônica de gerenciamento de energia para automóveis híbridos e elétricos
  • Pacotes para RF
  • Dispositivos de microondas
  • Filtros dielétricos cerâmicos paraestação base 5G

Apenas para citar alguns, para mais aplicações, entre em contato com a Royal Tech.

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Vantagens técnicas
Grande Capacidade
Design de Módulos Flexíveis
Fabricação precisa

O sistema de pulverização em lote RTAS1215 é a versão atualizada, o sistema mais novo tem várias vantagens:

Processo mais eficiente
1. Revestimento de dupla face está disponível por design de fixação rotativa
2. Até 8 flanges de cátodo planar padrão para várias fontes
3. Grande capacidade de até 2,2 ㎡ lascas de cerâmica por ciclo
4. Totalmente automação, PLC + tela sensível ao toque, sistema de controle de um toque

Menor custo de produção
1. Equipado com 2 conjuntos de bombas moleculares de suspensão magnética, tempo de partida rápido, manutenção gratuita
2. Potência máxima de aquecimento
3. Forma octogonal da câmara para otimizar o espaço usando até 8 fontes de arco e 4 cátodos de pulverização catódica para deposição rápida de revestimentos

O chapeamento de prata de PVD para o dielétrico cerâmico da estação base 5G filtra a máquina de prata do depósito engasgar do AG 1 O chapeamento de prata de PVD para o dielétrico cerâmico da estação base 5G filtra a máquina de prata do depósito engasgar do AG 2

Especificações técnicas

Modelo: RTSP-Ag1215

Altura da Câmara (mm): 1500

Diâmetro da câmara (mm): φ1200

Flange de montagem de cátodos de pulverização catódica: 4

Flange de montagem da fonte de íons: 1

Flange de montagem de cátodos de arco: 8

Satélites (mm): 16 x Φ150

Potência de polarização pulsada (KW): 36

Potência de pulverização (KW): DC36 + MF36

Potência do arco (KW): 8 x 5

Potência da fonte de íons (KW): 5

Potência de aquecimento (KW): 36

Altura efetiva do revestimento (mm): 1020

Bomba Molecular de Suspensão Magnética: 2 x 3300 L/S

Bomba Roots: 1 x 1000m³/h

Bomba de palhetas rotativas: 1 x 300m³/h

Bomba de Retenção: 1 x 60m³/h

Capacidade: 2,2 ㎡

Área de instalação (C x L x A) mm: 4200*6000*3500

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no local

 

Tempo de construção: desde 2016

Quantidade: 3 conjuntos

Localização: China

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Comparado com a enorme demanda do mercado, a produtividade do sistema de lote é baixa;temos nos dedicado a desenvolver o sistema de pulverização catódica em linha (continua a linha de deposição de pulverização catódica) com dispositivos automáticos de carga/descarga de robôs.Quem estiver interessado neste sistema, por favor contacte o nosso técnico para mais especificações.

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